南京航空航天大学科技部所需无掩模直写光刻系统项目进行招标，现欢迎符合资格条件且有供货能力的制造厂商、代理商或经销商报名投标。
一、项目名称
无掩模直写光刻系统；1套。
二、项目概述及主要要求
1. 系统激光最大书写面积149mm x 149mm；
2. 系统的激光波长为450nm，分辨率为2µm；
3. 系统平均的书写速度为6mm2/min；
4. 设备提供控制计算机和控制软件,系统适用于Windows7操作系统；
5. 系统激光镜头上配有CCD系统与激光扫描显微镜；
6. 系统使用红色LED自动对焦系统；
7. 系统提供相配套的基于win7的绘图软件；
8. 系统能够对BMP、CIF、TIFF等图片格式进行识别且可以进行对应的图案曝光处理；
9. 系统含双轴微型激光测距平面镜干涉仪（SIOS-SP2-120）附件；
10. 系统含Nanocube®XYZPiezo Stage（P-611.3）移动平台附件；
11. 系统具有过压、过流、欠压、缺相、短路、断路保护功能；
12. 软件界面友好，操作简单，免费提供专用软件的升级服务。
其它技术指标及要求（详见招标文件）。
三、投标人资格要求：
1．投标人应熟知本招标货物的制造及验收标准；
2．投标人必须遵守国家法律、行政法规，具有良好的信誉、商业道德，资金和财务状况良好；
3．投标货物在市场有良好的销售和使用业绩；
4．投标人为有能力提供货物及其服务的合法生产商或有原厂授权的合法销售代理商；
5．本项目不接受联合体投标。
四、报名时间、地点及联系电话
1、报名时间：自2014年12月16日至2014年12月22日止，工作日上午8：30-12：00；下午2：00-5：00。
2、报名地点：南京航空航天大学明故宫校区（南京市御道街29号）行政楼612室。
3、联系电话：025-84891868 姚老师
南京航空航天大学采招办
2014年12月16日